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二維材料發(fā)家史!



自2010年石墨烯獲得諾貝爾物理學(xué)獎以來,科學(xué)家和產(chǎn)業(yè)界對石墨烯就開始狂熱的追逐。和體相石墨的不同之處在于:石墨烯僅有一個(gè)碳原子層厚度,并表現(xiàn)出超優(yōu)異的力學(xué)、電學(xué)等性能。

 

在追逐石墨烯的同時(shí),一大批石墨烯之外的二維材料也被相繼開發(fā)出來,從元素周期表來看,這些元素主要包括:過渡金屬、碳族元素、硫族元素以及其他。這些超薄的二維材料和石墨烯一樣,具有和體相材料截然不同的新性能.

 


圖1. 各種二維材料及其結(jié)構(gòu)

ZhangH. Ultrathin two-dimensional nanomaterials. ACS Nano. 2015, 9, 9451-9469.

 

那么,什么是二維材料?


關(guān)于二維材料,目前并沒有絕對明確的定義,但是有三個(gè)方面,是得到科學(xué)家廣泛認(rèn)同的:

1)結(jié)構(gòu)有序;

2)在二維平面生長;

3)在第三維度超薄。

 


圖2. Ti3C2二維材料

 

那么問題就來了:


1)多薄才算超?。?/span>

按照石墨烯的定義,石墨烯是單原子層。而實(shí)際上單原子層在某些應(yīng)用上的性能并不是最好的,有時(shí)候2-3層或者5層左右的多層石墨烯具有最佳性能。

因此,大多數(shù)科學(xué)家對二維材料的厚度并沒有嚴(yán)格規(guī)定,更重要的還是以和體相材料的性能區(qū)別來定義。

 

2)是否需要是獨(dú)立的材料?

目前發(fā)現(xiàn)的二維材料家族中,有一些是freestanding,還有一些僅僅停留在基底表面,這些也被稱作二維材料。但是,沒有從基底表面剝離下來的二維材料是難以進(jìn)一步應(yīng)用的,因此,如何將二維材料從基底表面剝離是一個(gè)重要的議題。

 

總之,二維材料并不是從數(shù)學(xué)上來定義,而是從物理和化學(xué)的角度來定義。也就是說,以性能定義。

 


圖3. 二維材料結(jié)構(gòu)(從上至下:石墨烯,BN,MoS2,WSe2

 

二維材料究竟有什么特色?


單層二維材料的表面原子幾乎完全裸露,相比于體相材料,原子利用率大大提高。通過厚度控制和元素?fù)诫s,就可以更加容易地調(diào)控能帶結(jié)構(gòu)和電學(xué)特性,譬如硅烯(silicene)和磷烯(phosphorene)。二維材料可以是導(dǎo)體、半導(dǎo)體,也可以是絕緣體;可以是化學(xué)惰性,也可以隨時(shí)進(jìn)行表面化學(xué)修飾。概括起來,主要有以下3個(gè)優(yōu)勢:

 

1)更利于化學(xué)修飾,可以調(diào)控催化和電學(xué)性能。

2)更利于電子傳遞,有利于電子器件性能的提升。

3)柔性和透明度高,在可穿戴智能器件、柔性儲能器件等領(lǐng)域前景誘人。

 

石墨烯之外的二維材料五大家族


Yury Gogotsi說:“一個(gè)50歲的科學(xué)家在實(shí)驗(yàn)室玩新玩具和一個(gè)5歲小孩在家里玩新玩具的樂趣沒什么不一樣,二維材料就是我的新玩具!”

在石墨稀之外,貪玩的科學(xué)家發(fā)展了五大體系的二維材料,分別是:MXenes、Xenes、Organicmaterials、TMD(過渡金屬二硫族化物)以及Nitrides(氮化物)

 


圖4. 二維材料的五大家族

 

MXenes: 超薄碳化物或氮化物二維材料


六年前,來自Drexel university的Yury Gogotsi和 Michel W. Barsoum在尋找高性能鋰離子電池負(fù)極材料時(shí),意外發(fā)現(xiàn)一種高導(dǎo)電性能的氮化物和碳化物,稱之為MAX(M表示過渡金屬、A表示主族元素,譬如Al或Si、X表示C或N)。

 


圖5. MXenes材料制備策略

YuryGogotsi, Michel W. Barsoum et al. Two-Dimensional Transition Metal Carbides.ACS Nano 2012, 6, 1322?1331.


為了進(jìn)一步提高鋰離子電池的性能,他們用HF將Ti3AlC2 和其他 MAX材料進(jìn)行剝離,得到二維類石墨烯的超薄Ti3AlC2,以及Ti2C, Ta4C3, (Ti0.5Nb0.5)2C,(V0.5Cr0.5)3C2, Ti3CN等一系列材料,約30種之多。


MXenes家族由此誕生!



圖6. 現(xiàn)有MXenes材料匯總

YuryGogotsi et al. 2D metal carbides and nitrides (MXenes) for energy storage. NatureReviews Materials 2017, 2, 16098.


2014年,Drexeluniversity的研究團(tuán)隊(duì)利用MXenes材料發(fā)明了一種高效的可穿戴儲能技術(shù);2016年,Yury Gogotsi又利用MXenes材料發(fā)明了一種保護(hù)手機(jī)免受電磁干擾的技術(shù)。

 


圖7. MXenes用于電磁屏蔽

YuryGogotsi et al. Electromagnetic interference shielding with 2D transition metalcarbides (MXenes). Science 2016, 353, 1137-1140.

 

Xenes:單原子層單質(zhì)二維材料

 

科學(xué)家玩起來可是不遺余力的。繼石墨烯開發(fā)之后,世界各地的課題組展開對其他元素的剝離研究。和C鄰近的B, Si, P, Ge, Sn等元素的單原子層二維材料相繼被開發(fā)出來,這一系列材料被命名為Xenes。其中,X代表元素,ene是來源于graphene,表示烯。


2015年,美國和意大利的研究人員通過氧化鋁覆蓋,在Ag基底上制備得到了超薄的二維硅烯,并在場效應(yīng)晶體管中表現(xiàn)出優(yōu)異性能。

 


圖8. 硅烯制備

AlessandroMolle, Deji Akinwande et al. Silicene field-effect transistors operating atroom temperature. Nat. Nanotechnol. 2015, 10, 227–231.

 

2016年,美國西北大學(xué)的Hersam等人發(fā)明了一種以黑磷為原材料,以重氮苯衍生物為鈍化和保護(hù)性溶劑的方法,成功制備得到二維超薄磷烯。

 


圖9. 磷烯制備

Hersamet al. Covalent functionalization and passivation of exfoliated blackphosphorus via aryl diazonium chemistry. Nature.Chem. 2016, 8, 597–602.

 

2015年,兩個(gè)課題組差不多同時(shí)利用氣相沉積方法在金屬表面制備得到了超薄的單原子層硼烯。由于薄膜剝離技術(shù)的限制,這種硼烯材料的諸多性能尚未可知。

 


圖10. 硼烯制備

ArtemR. Oganov*, Mark C. Hersam*, Nathan P. Guisinger et al. Synthesis ofborophenes: Anisotropic, two-dimensional boron polymorphs. Science 2015, 350, 1513-1516.

 


圖11. 硼烯制備

GuoanTai et al. Synthesis of Atomically Thin Boron Films on Copper Foils. Angew.Chem. Int. Ed. 2015, 54, 15473–15477.

 

Organic materials: 有機(jī)二維材料

 

這類二維材料主要以二維MOF或COF材料為主。通過超聲或離子交換等技術(shù)使層間作用力較弱的金屬有機(jī)多孔材料或共價(jià)有機(jī)框架結(jié)構(gòu)分離瘦身,得到超薄二維片層結(jié)構(gòu)有機(jī)材料。

 


圖12. 二維MOF構(gòu)建OER電催化劑

ShenlongZhao, Yun Wang, Shaoqin Liu, Huijun Zhao, Zhiyong Tang et al. Ultrathinmetal–organic framework nanosheets for electrocatalytic oxygen evolution.Nature Energy 2016, 1, 16184.

 

TMD:過渡金屬二硫族化物

 

以MoS2和WS2為代表的TMDs在電子器件應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)展飛速,可能首先作為關(guān)鍵電路元器件使用。目前最大的問題在于:薄膜的批量化制備技術(shù)不成熟!


2015年,康奈爾大學(xué)的Jiwoong Park等人發(fā)明了一種化學(xué)氣相沉積方法,適用于三個(gè)原子層厚度的超薄MoS2和WS2的制備,最大面積可達(dá)65 cm2。

 


圖13. 大面積高質(zhì)量MoS2和WS2的制備方法

Jiwoong Park et al. High-mobility three-atom-thick semiconducting films withwafer-scale homogeneityNature 2015, 520, 656–660

 

二維材料,任重道遠(yuǎn)!



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