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氣霧栽培黃瓜南瓜缺鉀癥狀及防治
??黃瓜的設(shè)施栽培面積目前僅次于番茄,是重要的園藝蔬果作物。它屬于淺根性作物,根系對氧氣的要求較高,所以也是一種較適合氣霧栽培管理的品種。黃瓜根冠比小一般為1/8,所以容易根系早衰,只適宜短期多茬栽培,在溫室條件下一年可栽培三茬。氣霧栽培黃瓜一般選擇溫室品種,具耐高溫與耐低溫特性,而且最好是雌性型品種,減少人工授粉用工。

    黃瓜育苗有條件的采用氣霧育苗法,可直接移栽無緩苗現(xiàn)象,也可以用珍珠巖基質(zhì)育苗,待長至3片真葉時移栽。為了提高抗性縮短育苗期與促進不定根的大量形成,也可以用快繁育苗及種子苗的斷根育苗。如種子育苗一般低溫室35天,高溫期16-25天,用莖蔓快繁只需5-7天。黃瓜營養(yǎng)液配方采用日本通用園試配方,一般育苗期至開化前采用1個劑量培育,相當(dāng)于約EC值1.4 ms/cm濃度,開花后可調(diào)至1.5劑量(EC值大約為2.0ms/cm),至第二條瓜開始膨大時,營養(yǎng)液濃度可以提高至2.0劑量的水平(EC值大約為2.6ms/cm),直至最后收獲完畢。黃瓜生長后期容易出現(xiàn)P與K缺乏癥,可以適當(dāng)進行葉面補充

    黃瓜適應(yīng)的PH值范圍較廣,在4.5-7.5之間,如營養(yǎng)液配方無誤,配制方法得當(dāng),養(yǎng)液的PH值一般無需進行調(diào)節(jié).

    黃瓜與其它瓜果相比,喜歡環(huán)境適當(dāng)高溫(25-30度)高濕,如環(huán)境空氣過于干燥,因其蒸發(fā)量大較易出現(xiàn)生理萎蔫,嚴(yán)重時葉片焦枯。溫度35℃時達到光合作用補償點,超過35℃時同化效率下降易形成苦味瓜。黃瓜屬于中等光強作物,光飽和點為55KlX,光補償點為2KlX,黃瓜的日光合速率為雙峰曲線,中午有明顯的午體現(xiàn)象。

    氣霧栽培水果黃瓜液溫的管理也較為重要,特別是高溫期的盛夏及低溫期的冬季,作為設(shè)施調(diào)控栽培,冬季液溫不宜低于15℃,夏日液溫最好不要超過25℃。當(dāng)然如冬季白天溫室超過18℃以下,對于低于15℃的夜間液溫有抵消作用。同樣夏日把液溫控在23℃以下,也可以抵消白天夏日高溫所引起的生理障礙。但總體來說,氣霧栽培對液溫適應(yīng)范圍相對較寬,不象水培嚴(yán)格,與水培相比,氣霧培的最適范圍與制限范圍都可以漂移5℃。

黃瓜槽式霧培

定植株距0.6米

梯架霧培上梯面套種黃瓜

梯架上層套種水果黃瓜

 


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