光刻膠;photoresist分子式：
分子量：
CAS號：
性質(zhì)：又稱光致抗蝕劑。由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。它利用感光樹脂光照后，樹脂的溶解性或親和性發(fā)生明顯的變化，在光刻工藝過程中，用做抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠，使表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正、負型兩大類。在光刻工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分衩溶解，未曝光部分留下來，該辭涂層材料為正型光刻膠；如果曝光部分保留下來，而未曝光部分被溶解，該涂層材料為負型光刻膠。光刻膠生產(chǎn)技術復雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中使用光刻膠更是要求嚴格，而當集成電路向大規(guī)模、超大規(guī)模發(fā)展時，曝光光源由紫外光向遠紫外、電子束、X射線、離子束輻射光源變化，對光刻膠性能要求更高。
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